普陀亚电科技有限公司是半导体晶圆制造行业湿法制程设备商, 专注于晶圆前道湿法刻蚀清洗技术, 是国内首批推进半导体高端设备国产化的企业之一。公司立足于自主创新，形成集研发、设计、生产、销售为一体的经营模式，为国内外晶圆制造商提供高效的湿法工艺解决方案。 作为高新技术企业，公司拥有技术研发与应用，核心产品包含8吋、12吋槽式/单片湿法刻蚀清洗设备，多项技术通过专利申请，满足个性化多样化定制需求，为客户提供更有竞争力的产品和服务。 在 客户第一、团队合作、使命必达 的核心价值观的指引下，亚电人深耕发展，努力经营，坚持创新，致力于成为领先的中国集成电路湿法工艺解决方案服务商。
● 湿法刻蚀清洗设备业务
公司核心产品为6吋8吋12吋湿法刻蚀清洗设备，包括槽式设备和单片设备，涵盖多种前道湿法工艺，如: B Clean，Oxide Remove, Nitride Remove, PRStrip, Particle Remove, Solvent Clean,Wafer Reclaim, me
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